Лаборатория тонких плёнок

Наименование Особенности Основные характеристики Предназначение Примечание Фото
Сборка аккумуляторных батарей кнопочного типа Комплекс оборудования предназначен для сборки аккумуляторных батарей и суперконденсаторов так называемого «кнопочного» или «монетного» типа с форм-фактором CR2016, CR2025, CR2032. Комплекс позволяет проводить полупромышленный техпроцесс создания источников питания, включающий в себя перемешивание электродной пасты в вакуумном миксере, нанесение с помощью ракельного станка, а также горячую прокатку в пресс-машине горячего прессования. Список комплекта оборудования для приготовления и сборки источников тока кнопочного типа
Вакуумный компактный миксер GN-SFM-7
Аэрограф HARDER AND STEENBECK MINI-JET COLANI
Ракельный станок для нанесения покрытий DOCTOR BLADE СOATER MTI-AFA-II-V
Пресс-машина горячего прессования MSK-HRP-01
Шкаф сушильный вакуумный BINDER VD-23
Бокс перчаточный СПЕКС ГБ02М
Пресс-формовщик для дисков MTI MSK-T-07
Гидравлический пресс для формирования кнопочных элементов питания MTI-MSK-110
Список используемого вспомогательного оборудования
Весы OHAUS EX 224 аналитические с поверкой
Весы A&D DX-1200 лабораторные с поверкой
Лабораторная масляная баня
Ванна ультразвуковая САПФИР 1,3ТТЦ
Диспергатор T-25 DIGITAL ULTRA-TURRAX
Микропрофилометрия поверхности Профилометр MicroSpy® Profile NANOVEA PS50-5nm – оптический прибор для точного измерения топографии поверхностей. Оптическая головка и линейный датчик Nanovea используют луч белого света, который проходит сквозь линзу с высокой степенью хроматической аберрации, что приводит к образованию диапазона измерения по вертикали с закодированной длиной волны. Изображение получается в результате отражения определенной сфокусированной длины волны от поверхности исследуемого образца. Оснащение прибора программным обеспечением Mark III обеспечивает его применение как оптического профилометра (2D измерение) или метрологического топографического измерительного устройства (3D измерение) с использованием растровой развертки, формирующейся с помощью сканирования за счет перемещения столика. Прибор используется для создания метрологических карт поверхности соответствующих образцов. Шероховатость и волнистость можно определить в 2D или 3D в соответствии со стандартами ISO. Кроме того в формате 2D или 3D можно определить контур деталей. Линейные профили и данные 3D изображения можно представить графически и анализировать. ПО предлагает также различные выводы измерительных данных на экран, например, вид сверху или 3D поверхности, вращающиеся в пространстве в любом направлении. Можно также выбрать и оценить детальные структуры (функция увеличения). большой диапазон измерений по вертикали; быстрое измерение; измерение площадей и контуров деталей; независимость от различной отражающей поверхности образца; не нужно предварительно готовить образец к исследованию; измерение поверхностей, находящихся под большим углом; измерение всех материалов: прозрачных/непрозрачных, отражающих/рассеивающих, отполированных/ грубых; минимальная толщина при измерении прозрачных материалов – 7мкм. чувствительность перпендикулярно к поверхности – 5 нм; точность измерений перпендикулярно к поверхности – 20 нм; диаметр светового пятна – 2 мкм; разрешение по плоскости – 1 мкм.
Восьмиканальный анализатор источников питания MTI BST8-MA Устройство предназначено для тестирования портативных аккумуляторов, а также исследования ресурса электродных материалов. Наличие 8 обособленных каналов, а также держателя для источников питания «кнопочного» типа (CR2016, CR2025, CR2032) позволяет проводить измерения одновременно 8 источников питания. Количество каналов: 8
Диапазон тока: 0.02 мA – 10мA, точность: ±0.05%
Диапазон напряжения: 0.5 – 5В, точность: ±0.05%
Количество циклов измерений: 9999
Особенность работы: Восемь независимых каналов с возможностью раздельного программирования разных режимов работы
Вакуумное напыление Многофункциональный комплекс на базе трёх вакуумных напылительных систем VSR300 (РОБВАК, Россия) предназначен для вакуумного напыления на образцы тонких слоёв материалов. Комплекс оборудования размещен в чистой комнате «Ламинар-С», создающей 6 класс чистоты воздуха. Каждая система настроена на один из методов напыления: метод вакуумного термического испарения, метод магнетронного распыления, метод ВЧ магнетронного распыления, метод ионно-лучевого распыления. Комплекс позволяет создавать электрооптические, многослойные однородные и градиентные покрытия с заданными толщинами каждого слоя при напылении металлических материалов;напылении диэлектрических материалов;напылении полупроводниковых материалов
  • Предельное давление (достигается при откачке чистой камеры, при предварительном вентилировании сухим азотом и прогреве камеры до 200°С в течении трёх часов) 3,5х10-7 мбар
  • Максимальный нагрев камеры ТЭНами 250 °С
  • Скорость откачки турбомолекулярным насосом 700 л/с
  • Скорость откачки форвакуумным насосом 20 м3/ч
  • Количество термопар (вид термопары К) 2 шт.
  • Карусельный механизм вращения подложки (образцов) - да
1. Вакуумная полуавтоматическая система резистивного напыления на платформе VSR300 Дополнительные характеристики
  • Количество резистивных испарителей (из них один одновременно работающий) 3 шт.
  • Мощность блока питания резистивного испарителя 2,5 кВт
  • Режим непрерывной работы на токе более 200А10 (перерыв 20) мин
  • Длина лодочек для резистивного испарителя100мм


2. Вакуумная полуавтоматическая система с протяженными магнетронами на платформе VSR300 Дополнительные характеристики
  • Максимальный нагрев подложки 800 °С
  • Максимальный расход регулятора расхода газа (РРГ) 100 ст. см3/мин

  • Количество РРГ 2 шт.
  • Количество одновременно подаваемых газов 2 шт.

  • Ионный источник для очистки 100х400мм 1 шт.
  • Количество магнетронов 2 шт.
  • Размер мишени 100х400 мм

  • Толщина мишени 10 мм
  • Тип материала мишени не ферромагнетик


3. Вакуумная многофункциональная полуавтоматическая система с круглыми магнетронами на платформе VSR300 для формирования слоев металлов, полупроводников и оксидов. Дополнительные характеристики
  • Максимальный нагрев подложки 800 °С
  • Максимальный расход регулятора расхода газа (РРГ) 100 ст. см3/мин

  • Количество РРГ 2 шт.
  • Количество одновременно подаваемых газов 2 шт.

  • Ионный источник для очистки Ø50мм 1 шт.
  • Количество магнетронов 2 шт.
  • Размер мишени Ø50 мм

  • Толщина мишени Ø50мм
  • Тип материала мишени не ферромагнетик


Используемое вспомогательное оборудование Комплекс оборудования для чистых и особо чистых помещений «Ламинар-С»-242
  • Класс чистоты воздуха в рабочей зоне согласно ГОСТ ИСО 14644-1-2002 6 ИСО
  • Принцип работы системы вентиляции комплекса 100% рециркуляция
  • Характеристика движения воздуха в рабочей зоне слаботурбулентный воздушный поток
  • Кратность воздухообмена 163 1/ч
  • Освещенность рабочей зоны комплекса 2170 Лк
Химический синтез материалов в реакторе Система IKA LR-2ST является модульно расширяемым лабораторным реактором, разработанным для воспроизведения и оптимизации химических реакций, а также для перемешивания и гомогенизации в лабораторных масштабах. Полезный объем мин.: 500 мл
Полезный объем макс.: 2000 мл
Рабочая температура мин.: температура окружающей среды
Рабочая температура макс.: 230 °C
Досягаемый вакуум: 25 мбар
Вязкость: 150000 сПуаз
Диапазон вращающего момента: 8 – 290 об/мин
Ход телескопического штатива: 390 мм
Материал в контакте со средой: Боросиликат. стекло, FFPM, PTFE, сталь 1.4571
Открытия реакторных сосудов (шт./норма): 3/NS 29/32, 2/NS 14/23
Центрифуга SPIN-1200T Настольная лабораторная центрифуга для нанесения жидких материалов на планарные подложки. Толщины наносимых слоев от 1000 Å до 100 мкм
Размер подложек от 5х5 мм до 100 мм в диаметре
Ручное дозирование раствора
Держатели подложек с вакуумным или механическим прижимом
Скорость вращения от 300 до 10000 об/мин +/-1% для не загруженного держателя
Вискозиметр ротационный Lamy Rheology FIRST RM Вискозиметр ротационный Lamy Rheology First RM предназначен для измерения динамической вязкости и реологических характеристик жидкостей и пастообразных смесей в условиях лаборатории. Вискозиметр может применяться в пищевой, фармацевтической, косметической, химической, нефтехимической и других отраслях промышленности. Диапазон измерения динамической вязкости: от 3 до 156·106 мПа·с
Количество скоростей вращения: 21
Диапазон скоростей вращения: от 0,3 до 250 об/мин
Диапазон «крутящего момента» (измеряемых моментов силы сопротивления): от 0,05 до 10 мН·м
Диапазон измерения температуры (встроенным датчиком): от 0 до +120 °С
Пределы допускаемых значений относительной погрешности измерения вязкости с системой ASTM: ±10%
Пределы допускаемых значений абсолютной погрешности при измерении температуры: ±0,5 °С
Печь муфельная SNOL 7.2/1300 Электропечь предназначена для сушки и термообработки в воздушной среде при температуре до 1300°C Объем: 7.2 л
Диапазон изменения потенциала: ±10 В
Диапазон автоматического регулирования температуры: 50 – 1300 °С
Стабильность температуры в установившемся тепловом режиме: +/- 2 °С
Размеры рабочей камеры не менее: Ш*Г*В = 200*300*130 мм
Формирование тонких плёнок методом спин-коатинга Комплекс оборудования позволяет выполнять плазменную очистку поверхности подложек и наносить тонкие плёнки материалов из растворов на жёсткие плоские подложки методом spin-coating. Метод позволяет наносить взвешенные в жидкости частицы или жидкое вещество (например, фоторезист) в виде тонких плёнок на плоские подложки за счёт растекания раствора прекурсора при центрифугировании по поверхности подложки. Центрифуга SPIN-1200T позволяет подбирать параметры нанесения (скорость вращения, ускорение, время и т.д.) с большой точностью, благодаря чему возможно получение тонких плёнок заданной толщины и состава. Камера: материал стекло, Ø 211 мм, глубина 300 мм
Объем камеры: ~ 10,5 литра
Подвод газа: 2 регулятора расхода газа с игольчатыми клапанами
Генератор: 40 кГц /200 Вт или 13,56 мГц /50 Вт
Вакуумный насос: 2 м³/час
Плазменная система очистки поверхности подложек DEINER ELECTRONIC ATTO I

10,5-литровая лабораторная установка с полуавтоматическим управлением применяется для очистки, активации, а также травления поверхности.
Измерение сопротивления плёнки Система измерения Jandel RMS-EL-Z в комплекте с прибором для измерений электрического сопротивления Jandel RM3000 предназначена для измерения удельного поверхностного сопротивления монокристаллических плёнок, расположенных на полупроводниковых подложках р-типа проводимости или на изолированной подложке, резистивных и металлических плёнок, расположенных на изолирующих подложках по технологии четырёх точек с помощью специальной головки Jandel. Максимальные размеры измеряемого образца, диаметр 250 мм
Максимальная толщина измеряемого образца 150 мм
Диапазон измерения от 1 мОм/□
до 500 Мом/□
-Диапазон тока измерения от 10 нА
до 99,99 мА
Точность измерения 0,3 %
автоматический/ручной подбор диапазона тока измерения сопротивления; быстрота измерения; широкий диапазон измеряемого сопротивления; автоматическое отключение тока для предотвращения искры; удобное регулирование высоты; точное регулирование давления на образец с оптимальной скоростью опускания щупа; программное обеспечение для операции измерения и чтения результатов.
Установка электростатического спреевого осаждения ESPRAYER ES-2000S2A Установка позволяет создавать тонкие слои на подложке при помощи контролируемого по скорости распыления жидкого вещества под действием электростатических сил. Установка может быть использована для создания нановолокон, тонких слоёв на подложке, покрытия частиц, микроструктурирования поверхности и т.д. Модуль высокого напряжения от 3 кВ до 30 кВ
Величина потока от 0,1 мкл/мин до 1000 мкл/мин
Ток на форсунке – до 30 мкА
Напряжение на форсунке – до 30 кВ
Объем шприца – 5 мл
Максимальное количество шприцов - 2
Расстояние от шприца подложки до форсунки – от 50 мм до 250 мм
Запыляемая область подложки не более 200 x 200 мм
Движение распылителя (X,Y) – в диапазоне 200 × 200 мм
Контролируемое движение распылителя (по оси Z) - от 50 до 200 мм
Движение столика со скоростью от 0.1 мм/с до 100 мм/с
Возможность контролируемого создания трафарета на поверхности подложки из не более 99 точек
Возможность нагрева до температуры в диапазоне от 20˚С до 60˚С
Измерение температуры в диапазоне от 0˚С до 99˚С с точностью не хуже 2˚С
Измерение влажности в диапазоне от 2 % до 100 % с точностью не хуже 5 %
Печь трубчатая STF 15/180/301 Высокотемпературная трубчатая печь позволяет проводить нагрев, отжиг и синтез материалов в контролируемой газовой среде, в том числе в вакууме. Максимальная рабочая температура 1500°C
Внешний диаметр используемых рабочих трубок 60 мм
Нагреваемая длина рабочей трубки 180 мм
Нагревательные элементы из карбида кремния
Горизонтальная конструкция
ПИД-контроллер Carbolite 301, с функцией линейного изменения температуры
Таймер отложенного пуска и процесса
Сборка аккумуляторных батарей планарного типа Комплекс оборудования предназначен для сборки источников питания планарного типа (pouch cell). Получение электродной пасты и её нанесение производится по стандартной методике с помощью вакуумного миксера, ракельного станка, а также пресс-машины горячего прессования. Вакуумная упаковочная машина позволяет формировать батареи в корпусе из гибкой ламинированной фольги (pouch cell) с максимальными размерами 200х150 мм. Сборка батарей проводится в высокочистой инертной газовой среде в перчаточном боксе. Список комплекта оборудования для приготовления и сборки источников тока планарного типа
Вакуумный компактный миксер GN-SFM-7
Аэрограф HARDER AND STEENBECK MINI-JET COLANI
Ракельный станок для нанесения покрытий DOCTOR BLADE СOATER MTI-AFA-II-V
Пресс-машина горячего прессования MSK-HRP-01
Шкаф сушильный вакуумный BINDER VD-23
Бокс перчаточный СПЕКС ГБ02М
Устройство для герметичной запайки ячеек в гибкий корпус GELON GN-200
Список используемого вспомогательного оборудования
Весы OHAUS EX 224 аналитические с поверкой
Весы A&D DX-1200 лабораторные с поверкой
Лабораторная масляная баня
Ванна ультразвуковая САПФИР 1,3ТТЦ
Диспергатор T-25 DIGITAL ULTRA-TURRAX
Комплекс для электрохимических измерений BIO-LOGIC SP200 Комплекс представляет собой два потенциостата/гальваностата BIO-LOGIC SP-200, позволяющих проводить исследования в области определения коррозионных изменений, возобновляемых источников энергии, фундаментальной электрохимии, сенсоров и т.д. Максимальное напряжение: ±12 В
Диапазон изменения потенциала: ±10 В
EIS измерение: 3 МГц (1%, 1°) 1 МГц 7 МГц (3%, 3°)
Разрешение тока: 760 фA
Низкий ток: 6 диапазонов от 100 нA до 1 пA с разрешением 76 фA
Режим измерений без заземления прибора
Аналоговая фильтрация
Плата калибровки
Режим полного контроля стабильности (9 диапазонов)
Ультранизкий ток: диапазон до 1 пA
Встроенный EIS анализатор: 10 мкГц до 7 МГц
Генератор линейной развертки до 1 МВ/с